柯肯达尔效应（Kirkendall effect）是冶金学中的经典现象，最早由柯肯达尔在上世纪四十年代发现，两种扩散速率不同的金属组成的扩散偶中的非平衡相互扩散过程导致在扩散速度较快的金属一侧中形成孔洞缺陷。柯肯达尔效应会减弱异种金属焊接界面的结合强度；对柯肯达尔效应进行合理应用，可实现微纳空心结构的简单合成。但目前在许多体系中，柯肯达尔效应难以出现，未能获得所需的空心结构。

针对这一问题，近期公司文伟教授团队以复杂空心结构氮化钛合金薄膜的构筑为例，提出了“表面诱导”柯肯达尔效应，通过对固态材料的表面修饰，诱导柯肯达尔效应的产生。氮化钛（TiN）是一种金属间化合物型的合金材料，具有高电导率和高硬度的特点。利用“表面诱导”柯肯达尔效应，成功获得了具有空心结构的分级氮化钛3D阵列；用其组装的超级电容器具有“超快”充放电的能力，且具有超长的循环寿命（35万次以上）。相关成果发表于J. Mater. Chem. A期刊（中科院1区，影响因子10.733，论文链接https://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2019/TA/C9TA07642E#!divAbstract），永利集团为第一完成单位，论文第一作者及通讯作者为文伟教授，2016级硕士研究生姚金呈为第二作者，论文合作者包括浙江大学吴进明教授等。该研究工作得到了国家自然科学基金项目（项目编号51862005、51502065）的资助。

文伟教授近年来的研究工作主要侧重于分级结构阵列的构筑，已在Chem、Appl. Mater. Toady（被期刊选为封面论文）、J. Mater. Chem. A等期刊发表研究论文多篇。

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